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役員経歴書

Joel Hartmann JOËL HARTMANN (ジョエル・アルトマン)
エンベデッド・プロセッシング・ソリューション
フロント・エンド製造 & 技術研究開発担当
エグゼクティブ・バイスプレジデント

2012年2月より、エンベデッド・プロセッシング・ソリューション(EPS)向けのフロント・エンド製造 & 技術研究開発担当エグゼクティブ・バイスプレジデントを務めると共に、クロル工場・ルッセ工場(フランス)における製造オペレーションならびにEPS向け技術設計プラットフォームを指揮。

1979年から2000年、グルノーブル(フランス)にあるCEA-Leti(フランス原子力庁 電子・技術研究所:マイクロエレクトロニクス・情報・ヘルスケア技術に関する研究機関)に所属。2000年、Crolles2アライアンス(ST、NXP社およびFreescale社による半導体製造の研究開発プログラム)のディレクターとしてSTに入社。2008年、グループ・バイスプレジデント 兼 アドバンスドCMOSロジック & 派生技術担当 ディレクターに昇進。2010年~2012年には、アドバンスドCMOSプロセスを開発するIBM ISDA技術アライアンスにて、Semiconductor Research and Development Center(米国ニューヨーク州フィッシュキル)の共同リーダーを務める。

また、SOI Industry Consortiumの理事、およびIEEE Electron Device Societyのメンバーを務める。現在まで、半導体技術・デバイスに関する特許を15件出願すると共に、10件の出版物を執筆。

1955年、フランスのツーロン(Toulon)生まれ。国立グルノーブル高等物理学院(the Ecole Nationale Supérieure de Physique de Grenoble, ENSPG)卒、物理学専攻。

2015年2月

 

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